Technologisch topman Martin van den Brink van ASML legt uit hoe moeilijk het is lenzen te maken voor de lithografiemachines. foto Jurriaan Balke
Martin van den Brink, de chef ingenieur van ASML, wordt op 6 januari ook doctor. Eredoctor nog wel, van de Universiteit van Amsterdam.
Toen Martin van den Brink, product en technologie topman van ASML, werd gepolst of hij een eredoctoraat van de Universiteit van Amsterdam (UvA) zou aanvaarden, twijfelde hij. "Ik zeg op elke uitnodiging die me niet helpt onze producten te verbeteren meestal nee. Ik zit hier echter niet namens mezelf, maar namens het bedrijf en voor het hele team. Ik wil niet méér claimen dan ik ben. Het succes van ASML kent vele vaders. Toevallig kwam ik in 1984 hier binnen en toen was deze activiteit er al." Om zijn verhaal te illustreren laat hij een getypt document uit 1971 zien waarin drie mannen van Philips Natlab voorstellen om de eerste belichter voor chips te bouwen. "Dat waren de pioniers en Herman van Heek, in 1984 mijn eerste baas, had met zijn team veel ontwikkelingswerk gedaan toen ik in beeld kwam."
Toch wordt Van den Brink gezien als het stille brein achter het succes van ASML, die volgens de UvA 'door zijn visie en ongeëvenaarde durf een continue stroom van innovaties naar een industriële schaal brengt, ook als de wetenschap zelf nog terughoudend is'. Van den Brink lacht om de laatste zinsnede. "Dan zul je zien dat het een keer mis gaat. Dan zeggen ze op de universiteit: we hadden wel gezegd dat die technologie nog niet rijp is. Ik niet zo'n grote universiteitsbezoeker, maar als bedrijf houden we actief contact. We hebben enkele leerstoelen, zoals die van Jos Benschop aan de Technische Universiteit Twente. We zijn hier wel met fundamentele wetenschap bezig. De theorieën van historische Amsterdamse wetenschappers als Pieter Zeeman en Johannes van der Waals brengen wij hier in de praktijk. En van Frits Zernike. Zijn theorie is voor ons van het grootste belang bij het uitlijnen van de wafers in onze machines en het corrigeren van fouten in de lenzen. Het leuke is dat een zoon van Zernike nog bij ons gewerkt heeft."
Het nemen van risico's door theorieën in de praktijk te brengen waar de wetenschap nog niet helemaal uit is, is volgens Van den Brink onvermijdelijk. "Als we alleen dingen zouden doen waar je tevoren zeker van bent, dan maken we geen meter voortgang. Het gaat erom de juiste balans te vinden tussen risico nemen versus de rem erop. Je niet laten leiden door een fata morgana, maar reëel inschatten welke kansen een bepaalde richting heeft. Daar wordt hier intern natuurlijk zeer intensief en continu over gepraat."
Nemen van risico's betekent ook dat het mis kan gaan, zo erkent Van den Brink. "Als we ernaast zitten, moeten we dat managen. Een voorbeeld is de toepassing van licht met 157 nanometer golflengte. In 2004 wilden we overstappen van 193 naar 157 nanometer. Want hoe kleiner de golflengte hoe makkelijker je kleine structuren belicht. We wisten dat de kwarts lenzen die we tot dan gebruikten niet geschikt zijn. Dus hebben we deels ingezet op nieuwe lenzen van een kristalsoort, maar dat werkte ook niet. We hebben toen veel geld af moeten schrijven dat we daar in hadden gestoken."
Tegelijk werkte ASML ook aan immersie technologie en die viel heel goed uit. Van den Brink vertelt erover als over een avontuur uit een jongensboek. "Immersie gaat over het gebruik van zoiets simpels als water en hoe dat het licht breekt. Het maakte de noodzaak van een kortere golflengte in een keer overbodig. Het begon toen we weer eens naar Toshiba in Japan gingen om ze te overtuigen machines bij ons te kopen in plaats van bij onze Japanse concurrenten. We hebben daar voor het eerst de immersie technologie gepresenteerd en ze vielen daar in Japan van hun stoel. Als we dat klaar kregen, zouden ze zeker klant worden. Maar toen moesten we het nog realiseren. Nou, we hebben wel vijftig systemen ontwikkeld en uitgeprobeerd, voordat we dat lastige water voldoende onder controle hadden om het vast te houden tussen de lens en de wafer. Over dat gedrag van water hebben we ook topprofessoren geraadpleegd."
Ook nu staat ASML weer voor het nemen van grote risico's. In de loop der jaren heeft het bedrijf op zijn minst een miljard euro in de EUV technologie gestoken, zegt Van den Brink. "Ons doel is dat we met deze nieuwe machines in 2013 tenminste 100 wafers per uur kunnen belichten. We maken ook hier gebruik van wetenschappers bij de UvA die ook bij Cern in Zwitserland hoogstandjes leverden. Ons helpen ze onder anderemet CO2-koeling. Bij EUV maken we gebruik van licht uit plasma, opgewekt uit tin. Een ingewikkeld proces en het is moeilijk genoeg vermogen op te wekken om de machine snel te kunnen laten draaien. Toch weet ik zeker dat we deze en nog een paar hordes zullen nemen en dat EUV de toekomst heeft. Deze technologie gaat ons de komende tien jaar chips brengen met details tot onder de 10 nanometer."
Maar hoe voorkomt Van den Brink dat hij dit soort conclusies trekt vanuit een soort tunnelvisie op deze technologie? "Het mislukken van het verhaal met het 157 nanometerlicht bewijst dat we genoeg reflectie hebben om een tunnelvisie te voorkomen. Ook nu blijf ik concurrerende technologieën, zoals de e-beam, bestuderen. Al onze klanten ondersteunen EUV en bijvoorbeeld TSMC in Taiwan, die zowel EUV als e-beam bestudeert, draait wel al op ons systeem en niet op e-beam. Maar ik blijf die e-beam technologie op de voet volgen, totdat onze EUV inderdaad die 100 wafers per uur haalt."
© Eindhovens Dagblad 2012, op dit artikel rust copyright.
