Zie ook:
De nieuwe software maakt immersietechnologie geschikt voor het maken van chips met details vanaf 20 nanometer (miljoenste millimeter). Het geeft ASML even lucht om de nieuwste EUV-technologie, die voor dit soort details is ontwikkeld, te perfectioneren.
Tegelijk zit de concurrentie niet stil. Het Delftse bedrijf Mapper zegt voortgang te hebben gemaakt met de zogeheten elektronbeam technologie. In plaats van met licht werkt deze technologie met elektronenstralen die de patronen op de chip branden. Volgens Mapper zijn met een proefmachine bij het Franse onderzoeksinstituut Cea-Leti in Grenoble details van 22 nanometer geschreven. Dit instituut gaat ook de eerste productiemachine van Mapper uittesten. De strategie van Mapper is zich door een bedrijf als ASML over te laten nemen. Technologisch topman Martin van den Brink van ASML heeft eind december 2011 nog gezegd daar voorlopig niet in geďnteresseerd te zijn.
>> Lees in het Techblog meer over de elektronbeam van Mapper
© Eindhovens Dagblad 2012, op dit artikel rust copyright.
















