De opstelling van de machine bij TNO. Foto TNO
Volledig scherm
De opstelling van de machine bij TNO. Foto TNO

Eerste EUV-licht in machine van TNO in Delft

EINDHOVEN - TNO heeft deze week voor het eerst gedraaid met een nieuwe machine voor proeven met extreem ultraviolet (EUV) licht. Het is geen chipmachine, zoals ASML die maakt, maar een testopstelling.

TNO gebruikt hem om er materialen mee bloot te stellen aan EUV-licht en onderzoek te doen hoe die daarop reageren. Met een investering van enkele miljoenen euro's komt de EUV-machine niet in de buurt van de kostprijs van een machine van ASML. Toch is het belang van het onderzoek bij TNO voor het Veldhovense bedrijf zeer groot.

EUV-machines van ASML gaan ervoor zorgen dat klanten chips kunnen maken met details kleiner dan 10 nanometer (miljoenste millimeter). Ontwerpers van smartphones en tablets zoals Apple en Samsung kunnen met die chips hun apparaten nog meer functies geven.

Vervuiling
Maar ASML heeft niet voor niets veel vertraging opgelopen met de introductie van de EUV- technologie. Één van de problemen is dat het maken van die chips in een groot vacuüm vat zorgt voor vervuiling. Die vervuiling tast vervolgens spiegels die het licht moeten richten en andere onderdelen aan.

TNO heeft veel ervaring met vervuilende deeltjes in vacuüm, omdat het al twintig jaar onderzoek doet voor ruimtevaartorganisatie ESA. In de ruimte, ook vacuüm, tasten vervuilingen diens satellieten ook aan. De kennis die TNO daarmee opdeed kan goed gebruikt worden om de EUV- technologie te verbeteren.

Lichtbron
Het apparaat, dat TNO nu speciaal voor dit onderzoek heeft ontworpen, heeft eenzelfde soort lichtbron als de chipmachines van ASML. Alleen is de leverancier een voormalige Philips-afdeling, die nu in handen is van het Japanse Ushio. Daarnaast heeft de machine onder meer robots die het monster dat belicht moet worden naar de juiste plek in het vacuüm vat kunnen brengen.

"Hiermee kunnen we het vervuilingsgedrag en de duurzaamheid van materialen uitgebreid analyseren", zegt onderzoeksleider Rogier Verkerk van TNO. "We willen hiermee bijdragen aan de ontwikkeling van nieuwe materialen en componenten, nodig voor de meest geavanceerde EUV-lithografie machines."