Volledig scherm
Een werknemer van Carl Zeiss SMT monteert een spiegelset voor een EUV-machine van ASML. © Zeiss

ASML haalt hoogste EUV-snelheid ooit in laboratorium in Veldhoven

VELDHOVEN - In de cleanrooms van ASML in Veldhoven is de hoogste snelheid ooit bereikt met een machine die werkt met extreem ultraviolet (EUV) licht. Dat hebben onderzoekers van ASML woensdag verteld tijdens de SPIE Advanced Lithography conferentie in San José Californië.

Met EUV-technologie kunnen details op chips verder verkleinen, waardoor ze in mobieltjes of apparaten nog meer functies aankunnen.

Op de jaarlijkse SPIE conferentie komen deskundigen van alle bedrijven van naam die zich bezig houden met de chipindustrie bijeen om de chipproductie van de toekomst te bespreken. ASML is hier uiteraard een belangrijke gast en vaardigt ieder jaar enkele tientallen mensen af om er te spreken en te luisteren.

Zij maakten deze week bekend dat een EUV chipmachine opgesteld in Veldhoven nu werkt met een snelheid van 140 chipschijven (met ieder honderden chips) per uur. Dat meldt het technologisch tijdschrift Eetimes vanaf de conferentie. De EUV lichtbron leverde 245 Watt aan dit bijzondere licht en dat was voldoende voor die snelheid. Volgens de ASML-woordvoerder is de stap naar 250 Watt en 150 chipschijven per uur nog maar klein en zullen de chipmachines die vanaf juni worden geleverd aan klanten met die snelheid gaan werken.

Ultradun vlies

Opvallend is dat ASML voor het eerst aangeeft de machines zonder zogeheten pellicle te willen laten werken. Dat is een ultradun vlies dat de dia met daarop het patroon van de chip moet beschermen tegen vervuilende deeltjes afkomstig van de lichtbron. Bij ASML werken een kleine honderd ingenieurs aan de ontwikkeling van dat onderdeel. Met zo'n pellicle, dat nu nog 17 procent van het moeizaam opgewekte licht absorbeert, belicht de machine maar honderd chipschijven per uur. Volgens de deskundigen op de conferentie werkt ASML aan een verbeterde pellicle, maar ook aan verbetering van de lichtbron. Hierdoor zou het beschermende vlies op den duur niet meer nodig zijn, omdat er dan nauwelijks nog vervuilende deeltjes tegen de dia slaan.

Tot 2020 brengt ASML nog drie nieuwe versies uit van de EUV-machine. Behalve de snelheid zullen die de zogeheten overlay, hoe exact de diverse lagen van een chip op elkaar passen, verbeteren. 

Geheel nieuwe EUV machine

Na 2020 komt ASML met een geheel nieuwe EUV machine uit, die bijna twee keer de omvang heeft van de bestaande machines. Op de conferentie was onder meer projectleider Jan van Schoot om te vertellen over de ontwikkeling van deze machine die details kleiner dan 5 nanometer kan belichten. Hij gaf de aanwezigen wel een indruk hoe enorm groot deze machine moet worden. Vooral de Duitse lenzenleverancier Carl Zeiss SMT, die voor deze machine grote spiegels moet produceren, moet hiervoor een grote ontwikkelslag maken. ASML heeft om die reden vorig jaar 1,8 miljard euro geïnvesteerd in het bedrijf.

ED gebruikt je persoonsgegevens om deze reactie te kunnen plaatsen. Meer informatie vind je in ons privacy statement

Regionale Economie